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VTC-50A旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)供電系統(tǒng)采用了電機(jī)部分與控制部分分別使用獨(dú)立電源的方式，調(diào)速系統(tǒng)則采用了抗干擾性高的單片機(jī)進(jìn)行控制，使得轉(zhuǎn)數(shù)在高達(dá)1000-8000RPM范圍內(nèi)都非常穩(wěn)定。本機(jī)啟動(dòng)快速、轉(zhuǎn)數(shù)穩(wěn)定，可以保證膜層厚度的均勻性與*性。此外，在安裝結(jié)構(gòu)上，采取了減震措施，使得運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)噪音很低。該設(shè)備操作簡(jiǎn)單、清理方便，體積小巧，因此該設(shè)備被廣泛應(yīng)用于各大專院校及科研院所當(dāng)中。
VTC-100真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)具有操作簡(jiǎn)單、清理方便，體積小巧等優(yōu)點(diǎn)，主要應(yīng)用于各大專院校、科研院所的實(shí)驗(yàn)室中進(jìn)行薄膜的生成過(guò)程。設(shè)備標(biāo)配3個(gè)不同大小的真空吸盤，可根據(jù)樣品尺寸不同選擇不同的真空吸盤。工作時(shí)利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設(shè)備利用兩段程序控制速度。首先開動(dòng)涂膜機(jī)將設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)設(shè)置在一定的轉(zhuǎn)數(shù)范圍內(nèi)，在此轉(zhuǎn)數(shù)范圍內(nèi)設(shè)置一定的注膠時(shí)間對(duì)樣品進(jìn)行注膠，注
VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)/勻膠機(jī)主要應(yīng)用于大專院校、科研院所的實(shí)驗(yàn)室中的薄膜形成。本機(jī)利用高速旋轉(zhuǎn)使粘滯系數(shù)較大的膠體、溶液等材料均勻地涂覆在樣件表面。
VTC-200P真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)適用于半導(dǎo)體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機(jī)可用于強(qiáng)酸、強(qiáng)堿性涂覆溶液的涂膜制備。VTC-200P真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)腔體不可抽真空，工作時(shí)利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設(shè)備可儲(chǔ)存12組程序，每組程序包含6個(gè)運(yùn)行階段。不同運(yùn)行階段設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)不同，使設(shè)備緩慢提升速度*限速度，有利于薄膜材料在樣品表面均勻成膜，且不會(huì)過(guò)多浪費(fèi)，節(jié)約材料。腔室的上蓋可以對(duì)樣品進(jìn)
VTC-100PA真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)適用于半導(dǎo)體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機(jī)可用于強(qiáng)酸、強(qiáng)堿性涂覆溶液的涂膜制備。設(shè)備標(biāo)配兩個(gè)不同大小的真空吸盤，可根據(jù)樣品尺寸不同選擇不同的真空吸盤。工作時(shí)利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設(shè)備可儲(chǔ)存12組程序，每組程序包含6個(gè)運(yùn)行階段。不同運(yùn)行階段設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)不同，使設(shè)備緩慢提升速度*限速度，有利于薄膜材料在樣品表面
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