VTC-600G高真空磁控濺射儀

簡要描述：VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。可選配多個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2025-01-22
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產(chǎn)品簡介 VTC-600G高真空磁控濺射儀

VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600G高真空磁控濺射儀可選配多個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。

主要特點

可選配多個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換）。
可制備多種薄膜，應用廣泛。
體積小，操作簡便。
整機模塊化設計，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計，可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整。
可根據(jù)用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍。

技術參數(shù)

產(chǎn)品名稱	VTC-600G高真空磁控濺射儀
產(chǎn)品型號	VTC-600G
主要參數(shù)	1、結構：臺式前開門結構，后置抽氣系統(tǒng)。 2、極限真空：6.0X10-5Pa。 3、漏率：1h≤0.5Pa。 4、抽氣時間大氣至5.0X10-3約20分鐘。 5、真空泵組：機械泵+分子泵。 6、樣品臺:φ140、室溫-500℃、精度±1℃ （可根據(jù)實際需要提升溫度）自轉(zhuǎn)5rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)。可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能，以實現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。 7、加氣系統(tǒng)：質(zhì)量流量計2路。（氬氣/氮氣各一路） 8、靶頭與樣品臺中軸線夾角為34° 9、靶頭數(shù)量：3個（互成120°）。 10、靶槍冷卻方式：水冷 11、靶材尺寸：φ2″，厚度0.1-5mm （因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）
產(chǎn)品規(guī)格	12、產(chǎn)品規(guī)格： ·整機尺寸：700mm×852mm×1529mm；